光罩检验 电子显微镜出列

【新唐人2012年11月22日讯】(中央社记者钟荣峰台北22日电)对半导体光罩基材检验，测试设备大厂爱德万测试(Advantest)开发扫描式电子显微镜系统。

爱德万测试表示，光罩制程不容许出现任何重大缺陷，因为这不仅会降低良率，也将连带影响制程周期时间。

针对光罩缺陷检验，爱德万测试开发扫描式电子显微镜系统，结合全自动影像撷取技术，用多视角量测扫描式电子显微镜检测光罩缺陷，提供光束倾斜功能，以倾斜角度进行扫描。

爱德万测试表示，检验光罩缺陷，需具备逐一分类缺陷的功能，依缺陷类别判断适当修复方式，才能在既定制程周期时间内，达成良率目标。

在光罩缺陷检验产品特性上，爱德万测试表示，扫描式电子显微镜系统应具备高空间解析度，提供倾斜扫描；高稳定性、全自动影像撷取；以及与光罩检验系统相容等功能。