【新唐人北京時間2022年09月12日訊】中國半導體龍頭中芯國際不久前宣布其先進製程「有重大突破」，引起業界關注。然而，日前有知名半導體研究顧問向媒體透露，有中芯國際的工程師自曝，中國目前並未能製造出功能良好的DUV曝光機，其用DUV製造的 7奈米芯片成本高且良率非常低，很容易被投訴。

據台灣自由財經網報導，阿拉伯媒體「半島電視台」近日報導了中國被美國圍剿下大煉「芯」的現狀。

知名半導體研究顧問SemiAnalysis 分析師 Dylan Patel在接受半島電視台採訪時表示，如果日前傳出的中芯國際在7奈米製程獲得進展屬實，那麼可以說這的確是一個突破。但中芯依靠用DUV來製作7奈米芯片缺少一些功能，要想擴大生產規模，還需要逐步改進設計。

Patel還透露，有中芯國際的工程師自爆，中國自行開發的 DUV曝光機問題一堆，目前根本沒有製造出功能良好的DUV曝光機。

他表示，中芯國際工程師自己洩露了這些自產的機器容易被投訴的情況。他還強調，中國使用外國設備製造芯片的技術落後很多年，其國產設備更是落後外國幾十年。

此外，工研院產業科技國際策略發展所研究總監楊瑞臨（Ray Yang） 也指出，中芯國際使用 DUV 製造 7奈米芯片的良率非常低，也不具成本優勢。他表示，由於華為遭美國制裁而無法找外國代工廠，中國嚴重依賴中芯生產急需的芯片，但可能主要是用於「非商業性的特殊用途」。

據公開的資訊，當今的半導體行業中，先進制程5奈米、3奈米的芯片必須使用最先進的EUV，才能進行大規模生產；而7奈米以上的14奈米、28奈米等可以用DUV製造的芯片，則被大量用於通信、汽車、電器、工業生產等眾多領域。過去美國政府主要是限制中國企業獲得EUV，中國的企業就轉而大量購買囤積DUV，並致力於使用DUV來製造7奈米的芯片。

資料顯示，僅2021年，中國的企業就向全球最大的光刻機生產企業、荷蘭的阿斯麥(ASML)公司購買了81台DUV光刻機，而2022年一季度，ASML銷售的62台光刻機中，DUV占了59台，其中22台是賣給了中國。

然而，今年7月上旬，有知情人士向媒體透露，美國正在施壓荷蘭，要求  ASML停止向中國出售DUV。這意味著美國政府正把對中國光刻機的禁售範圍從先進制程的極紫外線光刻機（EUV）擴大到普遍使用的DUV。

在這樣的背景下，中國大陸有媒體近日宣稱，上海微電子集團與許多公司達成了合作，已成功研製出了28奈米光刻機，並聲稱「這標誌著我國的光刻機研究也已經進入了先進工藝的階段」云云。甚至有消息稱，在不久之後，上海微電子集團會在14納米光刻機的研發上完成突破。

自由財經認為，Patel日前透露的情況「等於打臉之前傳出中國上海微電子即將量產28奈米 DUV的訊息」。

由於掌控半導體技術不僅將塑造世界經濟的未來，同時也是軍事技術突破的關鍵，半導體行業的攻防戰已成為美中兩國之間最激烈的戰場之一

美國政府近期出台了多項措施來阻止高端芯片技術輸入中國。除「芯片法案」鼓勵企業在美設廠外，並限制獲得美國政府補助的企業在10年內不得於中國建造新廠或是擴充低於28奈米的先進製程。

上個月，美國商務部又宣布，禁止對中國出口用於3奈米以下製程的EDA軟體；上一週則限制GPU雙雄超微（AMD）、輝達（NVIDIA）向中國出售高階人工智慧（AI）芯片。

今年8月中旬，中國媒體宣稱中芯國際成功製造出了7納米芯片，當時《金融時報》曾發文，引述中國大陸半導體產業專家富勒（Douglas Fulle）表示：「中芯的進展所引發的轟動被誇大，他們正使用額外的曝光來彌補欠缺EUV機台的情況」，「但據了解，良率很糟糕」。

「金融時報」駐台北記者席佳琳（Kathrin Hille）在文中指出，中芯現在面臨的問題是，美國正封殺極紫外光（EUV）設備出貨至中國大陸，中芯只能仰賴成熟製程必備的深紫外光（DUV）機台，透過三次甚至四次轉印電路圖來完成7奈米芯片的製造，這使得中芯面臨一個戰略兩難的局面：要再投入多少時間和資金，才能以採用效率較低的方式來量產7奈米芯片。

席佳琳坦言，中芯用DUV機台生產7奈米晶片需要額外的成本和時間，「這是否是一場中芯想要的戰役，仍是個問題」 。

（記者黎明綜合報導/責任編輯：胡龍）