【新唐人2012年11月22日訊】(中央社記者鍾榮峰台北22日電)對半導體光罩基材檢驗，測試設備大廠愛德萬測試(Advantest)開發掃描式電子顯微鏡系統。

愛德萬測試表示，光罩製程不容許出現任何重大缺陷，因為這不僅會降低良率，也將連帶影響製程週期時間。

針對光罩缺陷檢驗，愛德萬測試開發掃描式電子顯微鏡系統，結合全自動影像擷取技術，用多視角量測掃描式電子顯微鏡檢測光罩缺陷，提供光束傾斜功能，以傾斜角度進行掃描。

愛德萬測試表示，檢驗光罩缺陷，需具備逐一分類缺陷的功能，依缺陷類別判斷適當修復方式，才能在既定製程週期時間內，達成良率目標。

在光罩缺陷檢驗產品特性上，愛德萬測試表示，掃描式電子顯微鏡系統應具備高空間解析度，提供傾斜掃描；高穩定性、全自動影像擷取；以及與光罩檢驗系統相容等功能。